荷兰光刻机巨头 asml 已和韩国三星电子达成新的合作协议，双方将联合投资 7.6亿美元（约 56 亿人民币/ 1 万亿韩元）在韩国新建一座半导体研究中心，该研发中心的主攻方向为下一代芯片的研发和制作。
国家交流促进的半导体合作
荷兰当地时间周一，韩国总统尹锡烈对阿姆斯特丹进行了为期四天的国事访问期间，这是自 1961 年两国建交以来韩国首脑首次对荷兰进行国事访问。
在访问期间，尹锡烈带着三星电子董事长李在镕和韩国 sk（海力士）集团董事长 chey tae-won 参观了 amsl 的制造工厂。随后三星和 asml 宣布共同投资 7.6 亿美元构建半导体研究所和制造工厂，主攻方向是利用下一代 euv 光刻机研究超精细芯片制造工艺。
除了三星电子，此次访问还促进了 asml 和韩国存储芯片巨头 sk 海力士的合作。双方在访问期间签署了一项协议，共同开发使用 euv 设备降低半导体生产中能源损失的技术。
除了企业合作，两国最高贸易官员还签署了一项协议，将在埃因霍温理工大学和荷兰 asml 总部引入尖端半导体学院，为两国培养半导体人才。该半导体学校的五年计划将于明年二月开始实施，预计将为两国培养500名芯片专家，同时满足了韩国对半导体人才的需求和荷兰引入外来劳工的诉求，是一项双赢的策略。
asml：全球独家的 euv 技术
光刻机的作用是使用光源在硅晶圆上蚀刻电子通路，是制作半导体芯片的重要器械。目前市面上的光刻机主要包含 duv （深紫外线 / deep ultraviolet lithography）和 euv （极深紫外线/ extreme ultraviolet lithography）两种。
duv 和 euv 最大的区别是光源不同：最先进的duv光源波也达到了193nm，这导致它只能用来制作 7nm 和更高制程的芯片。而 euv 的波长仅有 13.5nm，能在半导体晶圆上印刷更精细的图案，一般用来制作 5nm 及以下制程的芯片。
同样的芯片面积，其制程越低，可制作的电路内容就越丰富，性能也越强。因此 evu 技术制造的芯片性能非常强劲，通常会用作是手机、平板、电脑等终端消费电子的处理器。
目前asml 是全球独家 euv 光刻机厂商，一直在为台积电、三星、英特尔等高端芯片巨头提供最先进的 euv 光刻机。2022 年，asml 以 223 亿美元的收入排名全球企业第172位。
对中国的 euv 禁令
为了防止中国获得世界顶级的芯片制造技术，破坏欧美发达地区在高端半导体行业的垄断地位。2019 年美国与荷兰、日本国家政府发布禁令，禁止企业向中国提供先进的 euv 设备及技术，导致 asml 只能在中国区域销售 duv 和其他更落后的光刻机。
今年 9 月美荷政府又进一步加强对 asml 中国业务的禁令：除了euv 光刻机，7 nm 等制程较为先进的 duv 光刻机也被加入禁令中。随后美国商务部也对中国发布了多条半导体贸易和技术往来禁令，誓要全面封锁中国的高端半导体市场。
这是一场无声的战争，在美层层封锁下，我国只能放弃以往“以买代研”的依赖心理，踏入一条漫长的半导体自研长河。但在这些黑暗之路中也有一些振奋人心的消息，比如华为下半年推出的麒麟9000系列芯片，尽管该芯片的制程和代工方还没有定论，但单论芯片性能已然接近 7nm 制程水平。
然路漫漫其修远兮，苹果、台积电等掌握 euv 技术的头部企业已将芯片制程降低至 4nm 甚至3nm ，国产半导体还有很长的路需要走。
